7月28日，三菱电机宣布投资Novel Crystal Technology，该公司开发、制造和销售氧化镓（Ga 2 O 3 ）晶圆，该晶圆作为下一代功率半导体晶圆而备受关注。
近年来，随着全球对于碳中和目标的推进，使得市场对有助于提高电力效率的功率半导体的需求不断增加。其中，除了已用作半导体材料的硅（Si）之外，还正在开发碳化硅（SiC）和氮化镓（GaN）。
三菱电机已将使用Si和SiC的功率半导体产品商业化，为电力电子设备的节能做出了贡献。该公司致力于将氧化镓作为材料，以实现更高耐压和更低功率损耗的功率半导体产品。
Novel Crystal Technology 拥有在世界范围内较早开始功率半导体用氧化镓晶圆的开发、制造和销售的记录。该公司目前的业务范围为氧化镓外延膜衬底的制造和销售，单晶、半导体及其应用产品的制造和销售，以及三菱电机开发功率半导体所需的氧化镓晶圆。
未来，三菱电机将把多年培育的低功率损耗、高可靠性功率半导体产品设计和制造技术与Novel Crystal Technology的氧化镓晶圆制造技术相结合，以实现优异的能源效率，并加速研究以及使用氧化镓的功率半导体的开发。
编辑：芯智讯-林子
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