随着国家的大力扶持以及国产半导体厂商的自身努力，近两年国内半导体芯片产业得到了迅猛发展。然而由于中国在上游的半导体制造设备领域仍处于薄弱环节，所以国内的半导体厂商的新的工艺技术的量产，仍需依赖于进口设备。特别是在先进工艺需要用到的光刻机市场，荷兰的阿斯麦（AMSL）可谓是一家独大。而随着国内半导体厂商的技术升级，对于高端光刻机的需求快速增长，AMSL可谓是赚的盆满钵满。

上周三，据全球最大的光刻机制造商荷兰的阿斯麦（AMSL）证实，中国最大的晶圆代工场已向荷兰订购了一台最新型的使用EUV（极紫外线）技术的光刻机，价值1.2亿美元，未来可用于生产7nm工艺芯片，预计将于2019年年初交付。

上周末，国内存储制造龙头企业——长江存储也迎来了自己的第一台光刻机，同样是由ASML供应，不过这台机器并不是最新的EUV光刻机，而是193nm沉浸式光刻机，可用于产20-14nm工艺的3D NAND闪存晶圆，售价7200万美元一台。

ASML的光刻机安全降落武汉天河机场，正在卸货中

早在今年4月11日，由紫光集团联合国家集成电路产业投资基金、湖北集成电路业投资基金、湖北科投共同投资建设的国家存储器基地项目芯片生产机台正式进场安装，这标志着国家存储器基地从厂房建设阶段进入量产准备阶段。而此次，新的光刻机的进厂，也标志着长江存储32层3D NAND Flash即将进入量产。

此前，在CITE2018展会上开幕式上，紫光集团董事长赵伟国就宣布，紫光集团旗下的长江存储32层64G 3D NAND Flash存储器将会在2018年达成小规模量产的目标，2019年64层128G 3DNAND Flash储器则将会进入规模研发的阶段。

今天（5月21日）上午，在上海浦东新区康桥工业园南区，华虹集团旗下上海华力集成电路制造有限公司建设和营运的12英寸先进生产线建设项目（“华虹六厂”）首台工艺设备光刻机正式进厂。

据了解，这台光刻机的型号是NXT 1980Di，依然是由ASML供应。官方资料显示，这是一台193nm双级沉浸式光刻机，用于10nm级（14~20nm）晶圆生产，同时它也是大陆装备的最先进的沉浸式光刻设备。

根据官方官网资料显示，华虹六厂是该司的第二个12英寸晶圆生产线，设计月产能4万片，工艺技术从28nm起步，最终将具备14nm三围工艺的高性能芯片生产能力。

从国内这三大半导体厂商开始密集采购ASML先进的光刻机设备，我们不难看出，国内的半导体产业发展已经开始进入了一个新的阶段。但是我们仍然需要清楚的认识到我们在上游半导体设备领域的缺失，特别是在高端的光刻机领域的空白。

编辑：芯智讯-林子