近日，光刻机巨头ASML正式发布2022年度财报。报告显示，ASML在2022年销售额达到212亿欧元（约合人民币1554亿元），与2021年相比增长了13.8%，毛利率为49.7%。

ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink在年报中介绍，尽管2022年经历了很多动荡，但是ASML依旧取得了不错的成绩。

预计到2025—2026 年，ASML将大幅提升产能，达到年产90台EUV（极紫外光）光刻机和600台DUV（深紫外光）光刻机。同时，在2027年到2028年，将增产20个高数值孔径EUV光刻机。

上个月，ASML预测2023年销售额将增长25%，其中对中国的销售额稳定在22亿欧元左右，占2021年收入的14%。虽说这是ASML最大的市场，但大家应该也看到了消息，近日来美国、荷兰、日本政府达成协议，将对中国芯片制造施加新的设备出口管制和限制。对此中国半导体行业协会还发布了严正声明，明确提出三个“反对”。

ASML在其年度报告中提到，对华出口管制规定的风险时，概述了它如何受到美国政府去年推出的限制措施的影响。

ASM CEO Peter Wennink表示，ASML了解到美国在1月下旬与其盟国达成了一些协议，但没有公开披露任何细节，任何新的限制都需要几个月的时间来制定和实施。Wennink说：“我们了解到，已经采取了涵盖先进光刻工具以及其他类型设备的措施。”但他同时表示“我们预计这些措施不会对我们2023年的预期产生实质性影响。”

ASML表示：“此类发展，包括对技术主权的推动，也可能导致全球贸易、竞争和技术供应链发生长期变化，这可能对我们的业务和增长前景产生不利影响。”ASML财务长Roger Dassen也表示，短期内全球经济衰退可能冲击半导体需求，但是仍看好长期需求增长，因此将会继续提升产能。

在技术设备上，ASML一直是全球芯片行业关注焦点，尤其是其下一代光刻机设备，何时能落地也成为了众人最关心的事情。

在此次公布的年报中，ASML提到，最新一代的EUV 0.33 NA光刻系统TWINSCAN NXE：3600D，与前代产品TWINSCAN NXE：3400C相比，生产率提高了15%～20%，覆盖率提高了约30%，同时还提高了系统可用性。

下一代EUV光刻系统EUV 0.55 NA相较于EUV 0.33 NA而言，有更高的分辨率。据了解，EUV 0.55 NA预计将于2025年首次部署，将在2025—2026年开始支持大批量生产。EUV 0.55 NA光刻系统TWINSCAN EXE：5000已经在2022年收到了采购订单，预计该系统未来将达到每小时220片晶圆的生产率。

在去年的第三季度，ASML推出了最新浸入式系统TWINSCAN NXT：2100i，该系统除了对透镜计量、光罩调节和晶圆表的内在改进以及对整体交叉匹配改进外，NXT：2100i还具有对准优化器12颜色包等创新。该系统能提供每小时295片晶圆的生产率，能够为3nm 及以下节点上的浸没层的提供最具成本效益的解决方案。在干式系统中，最新TWINSCAN NXT：1470双级ArF系统，可以打印分辨率低至220nm的图案，用于200mm和300mm晶圆生产，实现每小时330个晶圆的生产率。