7月, 荷兰将正式出台对华半导体限制法案 , 相关法规的内容或将撼动整个半导体行业 , 受法案影响的恐怕不仅仅是我国 , 全世界同样屏息以待。

让我们先简单梳理一下 , 去年以来美国与西方一系列对中限制的连环套路.

一. 2022.10.07 : 美国出台14nm以下相关技术与设备禁止对中输出

二. 2022.12.15 : 长存 , 上微 , ICRD , 寒武纪等国内企业被美商务部纳入实体列表

三. 2023.01.27 : 美日荷三方对中输出限制会谈于华盛顿闭门会议正式谈判完毕(日本与荷兰于谈判完毕后 , 回国制定相关法律并完成立法程序)。

四. 2023.04.10 : 日本产经省正式出台23项对不友好国家的半导体输出限制

五. 2023.07. ? : 荷兰将正式出台对中半导体限制法案

荷兰ASML光刻机到底如何禁止 , 在即将到来的7月 , 我们将迎来最终答案.

目前看来荷兰相关法案有几个可能：

1. 与美国同步禁止14nm以下光刻机 (28nm可供)

2. 与日本一样禁止所有浸没式光刻机(45nm以下禁止)

3. 45nm以下光刻机须提出申请 , 由荷兰政府审批是否输出

荷兰的政策就是以上三种剧本 , 不会有其他 . 目前三种办法都有很高可能性 , 作者个人判断第三种可能性会稍微高一点。

近期彭博等外媒报导 , 1980系列不禁止 , 只禁止更高级别的2000i以上光刻机型 , 这与1/27号美日和三方政府在华盛顿会谈结束后 , ASML CEO马上发表公开声明 “ 我们认为1980系列不属于先进型号 “ 的喊话不谋而合 , 但作者要清楚告诉各位 , ASML CEO的说法只是企业层面声明 , 企业的立场必然想卖设备 , 但这并不代表荷兰政府层面的想法 , 更不代表美日荷三方会谈的结果。

(日本产业经济省23项半导体限制)

美日荷三方会谈内容到底谈的是什么? 我们应该可以从4月初日本经济产业省出台禁止所有浸没式光刻机的法案解读出可能的蛛丝马迹。很显然日本限制的层级高于美国 , 美国BIS禁14nm , 日本的法案却明确禁45nm , 如此一来不是图利美国设备商吗?

这显然是不公平的 , 我想美国最终大概率会把限制层级拉高到与日本一样 , 不然所谓美日荷三方会谈就是一个不平等条约 , 只利好美国设备商 , 而不利于盟友 , 这不符合当初美国大费周章 , 讨好及拉拢日荷一起对抗中国的姿态 . 毕竟当时日本与荷兰对中国这个大客户的设备销售意愿表现出非常积极的态度 , 美国是有求于日荷的 , 日荷没有任何必要答应美国的不平等条款 . 所以美日荷三方的限制层级最终会趋于一致。

目前媒体会以1980或者2000系列光刻机来做为荷兰法案限制型号的依据 , 但事实并非如此 , 这是一个复杂的情况 , 因为不论哪个型号的光刻机 , 它的工艺节点都是广泛的 , 比如说1980系列光刻机的工艺节点 , 可以从28nm到7nm . 2017年台积电就是用1980ci搭配SAQP的四重曝光技术 , 制作出全球第一款7nm芯片 , 1980系列光刻机能制作7nm芯片 , 这显然违背了美国的禁令 , 我们必须知道去年美国商务部BIS出台1007禁令以后 , 我们就拿不到可以做到14nm以下的光刻机 , 最明显的例子就是去年11月原本ASML要交付的8台1980di光刻机 , 硬生生的在交付之前被BIS阻挠并要求除了不提供14nm技术的软件以外还要返回原厂修改硬件 , 这8台就是所谓阉割版1980 在经历几个月的修改之后 , 刚刚于前不久的6月份交付完成 . 正因为确实有光刻机交付 , 所以市场上出现近期有2050先进光刻机交付的各种传闻。

美日荷于1/27正式谈判完毕 , 日本法案于四月份早早出炉 , 而荷兰的相关法案却迟迟无法推出 , 拖到7月份才将公布 , 这里面有个小插曲 , 也就是文章前面提到的8台阉割版1980于6月份交付完毕。所有的时间点颇值得玩味 。

如媒体所报导 , 1980系列或者2000系列可供应或者不能供应中国 , 这说法并不准确 , 因为每个型号的光刻机工艺节点跨度太大 , 比如美国BIS去年要求限制14nm以下的设备 , 1980系列光刻机只能因规定去修改并阉割相关性能 , 最终28nm的中国特供版本1980光刻机横空出世 , 而七月份荷兰的立法的唯一看点 , 就是这台阉割版1980倒底能不能交付中国 , 到底会不会给2050这问题就不用纠结了 , 作者很确定告诉你不会有 , 这次荷兰立法的关键就只看到底阉割版1980能不能给 , 没有其他 , 这也就是我文章前面提到的三种可能性 , 这三种可能性全部围绕这款只能做28nm的1980 , 没有也不需要关注其他型号。

正因为美日荷三方的规定不尽相同 , 同型号光刻机涵盖节点太多 , 又出现了正常版与阉割版不同的1980光刻机 , 这些变量加在一起让事情变得更加复杂 , 这也是非业内朋友们经常搞混乱的原因。

截至目前国内已下订单未交付的1980系列光刻机超过80台 , 其中因为厂家被纳入美国实体列表而不会交付的接近30台 , 而合同正常未到交付时间的有50台左右 , 这50台的订单主要来自合肥的存储厂与国内最大的逻辑代工厂这两大客户 , 交付时间都是2024年以后(目前DUVi的交货期为15个月) , 也就是说这一次荷兰立法唯一看点就是未来这50台光刻机能否交付 , 如果荷兰立法放行 , 这批光刻机可以交付 , 那国内fab的国产设备招标会马上展开 , 为何今年所有国内半导体工厂的国产设备招标全部延迟 , 主要原因就是在等荷兰立法的靴子落地。能拿到光刻机才会有后续配套的国产设备招标。

如果荷兰立法的结果是好的 , 我们可以拿到光刻机 , 那这一波国产设备招标的金额以及数量将会达到史无前例的高峰 , 因为经过这两年的努力 , 28nm的设备国产化率 , 从2021年的15%左右拉高到现在的35%以上 , 通过行业内上下游不断的努力 , 每一个季度都会有新的国产设备不断的通过认证 , 国产化率两年增涨两倍以上 , 这意味着相同产能招标 , 国产设备有两倍甚至更高的份额增长 , 这次国产招标的特点将是总量大 , 比例高。

但如过荷兰方面的立法是这批光刻机不能再交付给中国 , 那上述的招标将无以为继 , 那将是一个噩耗。

其实把时间拉长来看 , 我们对这次荷兰的立法不需要抱有太大期望 , 因为即便这次立法有利我们 , 让已下订单的50多台光刻机再未来可以顺利交付 , 那也只代表我们还能再利用西方技术多盖两座工厂 , 仅此而已 , 这几座工厂盖完以后 , 阉割版这种28nm不上不下的工艺节点已经太多不再需要 , 而更先进型号的光刻机 , 可以很确定的说西方不会再给我们 , 所以当务之急就是重点发展中国自己的光刻机 , 这是唯一的破局之道 .

目前国内有许多单位承担着光刻机的功关任务 , 或许之前确实不是太如人意 , 但从去年美国1007的限制给国内的巨大的压力之后 , 我们看到了行业内的积极与努力 , 光刻机确实非常难 , 不论物镜 , 光源 , 工件台或浸液等子系统都是全球每个领域的顶尖技术 , 一两年的短期或许还出不了结果 , 但相信通过国家史无前例的大力支持与行业内的不懈奋斗 , 国产光刻机必然有面世的一天 , 而这一天也将会是中国与全球半导体的转折点

作者吴梓豪, 成功大学机械工程系毕业 , 1999年台积电fab3厂务工程师 , 2001年苏州和舰半导体建厂小组成员 , 历任国内多个半导体 , 面板 , LED建厂小组负责人