业界 AMD Radeon RX 9070 / RX 9060显卡发布:4nm制程,RDNA 4 GPU,支持FSR 4 技术 1月7日消息,处理器大厂AMD在CES 2025展会期间正式发布了基于4nm制程的RDNA 4 GPU内核的Radeon RX 9070和RX 9060系列独立显卡,它们都搭载了AI加强的 FSR 4 技术及更多功能,将于 2025 年第一季度上市。2025年1月7日
业界 英特尔宣布将继续投资独立显卡! 1月7日消息,据外媒Theverge报导,英特尔临时联合CEO Michelle Johnston在CES 2025的主题演讲中表示,“我们非常重视独立显卡市场,并将继续朝这个方向进行战略投资。”2025年1月7日
业界 SK海力士大扩产,HBM月产能将飙升至17万张 1月7日消息,SK海力士今年将以12英寸晶圆为基础,将高带宽内存(HBM)的DRAM产能扩大至每月17万张。此举被解读为应对除最大客户英伟达之外的领先人工智能(AI)芯片公司需求激增的举措。2025年1月7日
业界 英特尔宣布首款Intel 18A处理器将于2025年下半年发布 1月7日消息,处理器大厂英特尔临时联合CEO Michelle Johnston在CES 2025展会上宣布,其首款基于Intel 18A制程的芯片——英特尔Panther Lake处理器将于2025年下半年发表。2025年1月7日
业界 英特尔酷睿Ultra 200HX发布:24核CPU,5.5GHz,13TOPS NPU 美国当地时间1月6日,英特尔在CES 2025展会上正式推出了基于Arrow Lake平台的新一代酷睿Ultra 200HX、200H 和 200U系列移动处理器。其中酷睿Ultra 200HX主要面向超高端笔记本和移动工作站,酷睿Ultra 200H则面向高端轻薄笔记本,酷睿Ultra 200U主要面向低功耗笔记本。2025年1月7日
业界 恩智浦:2030年来自印度的营收占比或达10%! 1月7日消息,据路透社报道,恩智浦半导体(NXP)印度主管Hitesh Garg在印度当地举办的产业活动中表示,随着印度汽车与工业产业成长,有望带动该公司当地营收增长,“未来三至五年,印度将成为恩智浦非常重要的市场,我们也会在印度创造大量营收”,预计在总营收当中的占比将达到8%至10%。2025年1月7日
业界 美国国防部将腾讯/宁德时代/长鑫存储等134家中企列入黑名单,6家被移出! 当地时间1月6日,美国国防部通过《联邦公报》发布最新版的“中国涉军企业”清单(Communist Chinese military company,“CMC”,根据美国法律正式规定为“第1260H条名单”),将腾讯控股、宁德时代、长鑫存储、移远通信,以及无人机制造商深圳市道通智能航空技术股份有限公司(Autel Robotics Co.,Ltd.)等中企新增列入该清单,完整清单包括134家中企,其中还涵盖了长江存储、中芯国际等众多中国半导体企业。2025年1月7日
业界 台积电股价创历史新高!2025年营收或同比增长30%,CoWoS先进封装成关键推力 1月6日消息,受益于台积电ADR上周五大涨3.49%,推动台积电在中国台湾股市今日股价收盘突破新台币1,125元,突破历史新高,市值达到了新台币29.17万亿元(约合人民币6.5万亿元,约合8882亿美元)。2025年1月6日
业界 2025年AI服务器出货量占比将达15%,但销售额占比将超70%! 1月6日消息,根据TrendForce集邦咨询最新调查报告显示,2024年整体服务器市场产值估约达3060亿美元。其中,AI服务器成长动能优于一般型服务器,产值约为2050亿美元。随着2025年AI服务器需求仍将持续增长,且单位平均售价(ASP)贡献较高,产值有机会提升至近2980亿美元,占整体整个服务器市场产值比例进一步提升至70%以上。2025年1月6日
业界 2025年Arm PC市占率仍只有12%! 1月6日消息,虽然有搭载苹果M系列处理器的Mac PC的助力,以及高通积极通过骁龙X系列处理器拓展PC市场,但是市场研究机构ABI Research最新发布的研究报告称,2025年基于Arm架构处理器的PC仅占整个PC市场出货量的12%。2025年1月6日
业界 台积电2nm客户不会转单!专家:三星先进制程甚至还落后英特尔 1月6日消息,近日有传闻称,高通由于台积电2nm制程价格过高,可能将其未来的2nm芯片转交由三星电子代工。不过,半导体研究机构SemiAnalysis首席分析师Dylan Patel认为,这些谣言有问题,因为高通及英伟达(Nvidia)对三星都没有信心。2025年1月6日
业界 美国研发新型BAT激光器:EUV能源效率提升10倍! 1月6日消息,美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室(LLNL)宣布开发出了一种名称为大孔径铥 (BAT) 激光器,旨在为极紫外 (EUV) 光刻技术的下一步发展奠定基础。该激光器的效率号称是目前ASML EUV光刻机中使用的二氧化碳(CO2)激光器的 10 倍,并有望在多年后取代光刻系统中的 CO2 激光器。2025年1月6日