日期 2018 年 7 月 5 日

新思科技Fusion技术助力三星7LPP EUV工艺降低功耗、缩小面积并提高性能

2018年7月4日,中国 北京——全球第一大芯片自动化设计解决方案提供商及全球第一大芯片接口IP供应商、信息安全和软件质量的全球领导者新思科技(Synopsys)近日宣布,新思科技Design Platform Fusion 技术已通过三星认证,可应用于其7纳米(nm)低功耗+(LPP-Low Power Plus)工艺的极紫外(EUV)光刻技术。