日期 2023 年 12 月 9 日

12月9日消息，根据日本光刻机大厂尼康（Nikon）官方消息，其将于2024年1月正式发布ArF浸没式光刻机NSR-S636E。尼康称，作为半导体生产过程中关键层的曝光系统，NSR-S636E具有尼康历史上更高的生产效率，并具有高水准的套刻精度和生产速度，可为尖端半导体器件中的 3D 等器件结构多样化的挑战提供解决方案。