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日经:中国企业拟与尼康和佳能共同开发光刻机!

随着美国政府收紧对中国半导体企业的管制措施,到2025年中国能否将芯片自给率提高到7成仍然存在变数。不过日经新闻今日刊文指出,从长远来看,美国围绕技术的攻势反而可能会助推中国半导体产业的自立与发展。
90%零件需全球采购 制造一台光刻机究竟有多困难

90%零件需全球采购,制造一台光刻机究竟有多困难?

近段时间有关芯片以及光刻机的话题非常热门,我们今天也来探讨一下光刻机的话题。一台能生产先进工艺芯片的光刻机后面究竟需要多少供应链去支持?制造一台光刻机需要多少个国家的公司参与其中?看看制造一台光刻机究竟有多困难。

英唐智控成功收购日本先锋微技术,自有光刻机可为华为代工模拟芯片?

8月24日消息,英唐智控今天通过互动平台回应投资者提问时表示,其收购的先锋微技术自有的生产设备中包含有日本产的光刻机设备,其收购事项已经获得日本政府批准。先锋微技术光刻机主要用于模拟芯片的制造,在满足其自身生产研发需要的前提下,不排除向具备条件的其他客户提供产能支持,但公司目前尚未启动该类型的合作。
传英国将在6个月内移除华为5G设备!英国官员这样回应-芯智讯

华为强势挖角设备厂,5nm光刻机两年内投入量产?

一位半导体设备厂商内部人士向芯智讯爆料称,“华为近期搞到了上海的几家半导体设备厂商的员工通讯录,挨个打了电话。我们公司,除了总经理,基本上都接到了华为的电话。我有同事就被挖走了,而且是直接放下了手中的重要项目,直接走了。”

不用EUV也能实现5nm?中科院研发新型激光光刻技术

近日,据中国微米纳米技术学会报道,中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所张子旸研究员,与国家纳米科学中心刘前研究员合作,在《纳米快报》(Nano Letters)上发表了题为《超分辨率激光光刻技术制备 5nm 间隙电极和阵列》(5 nm Nanogap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography)的研究论文,论文讲述了该团队开发的新型 5 nm 超高精度激光光刻加工方法。
打破ASML光刻机双工件台技术垄断!华卓精科拟登陆科创板

打破ASML光刻机双工件台技术垄断!华卓精科拟登陆科创板

近日,北京证监局披露了“北京华卓精科科技股份有限公司”(以下简称“华卓精科”)的第三期辅导工作报告,该公司拟登陆科创板。而根据华卓精科官网显示,其生产的光刻机双工件台,打破了ASML公司在光刻机工件台上的技术上的垄断,成为世界上第二家掌握双工件台核心技术的公司。

华虹无锡12英寸产线首批光刻机顺利进场,9月将试产

2019年6月6日上午,华虹无锡集成电路研发和制造基地一期项目再次迎来了重要阶段性成果,由华虹半导体(无锡)有限公司承担的12英寸生产线 (华虹七厂)成功实现首批光刻机的同时搬入,标志着华虹七厂建设上了一个新台阶,为9月建成投片奠定了坚实基础。