为降低DRAM制造成本，传美光将率先采用佳能纳米压印设备
据外媒报道称，美光近日在一场演讲当中介绍了如何将纳米压印技术用于DRAM生产的细节，这似乎也预示着美光将会率先采用佳能的NIL设备用于DRAM芯片的生产，以便进一步降低DRAM的制造成本。
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光刻机子系统之——对准标记及对准系统
光刻机的对准系统（Alignment System）负责把掩膜上的图形和晶圆上已经有的图形对准，以保证曝光后图形之间的准确套刻。其主要过程包括掩膜的预对准和定位、晶圆的预对准、掩膜工件台与晶圆工作台之间的对准、掩膜与晶圆的对准四个步骤。
担心被用于军事目的，荷兰撤回部分ASML对华出口许可
2月20日消息，据路透社报道，荷兰贸易部长范李文（Geoffrey van Leeuwen）近日在接受采访时表示，由于担心半导体设备龙头ASML的光刻机被用于军事目的，因此近期已决定撤回ASML对中国出口部分产品的许可证。
单台3.5亿欧元！ASML首次公开展示High NA EUV光刻机：拐点将在2026年左右到来！
近日，全球光刻机大厂ASML展示了最新一代的High NA EUV光刻机，除了已经率先获得全球首台High NA EUV光刻机的英特尔之外，台积电和三星订购High NA EUV预计最快2026年陆续到位，届时High NA EUV将成为全球三大晶圆制造厂实现2nm以下先进制程大规模量产的必备“武器”。
ASML：NXT:1970i和NXT:1980i对个别大陆厂商供应也将受限！
北京时间2024年1月24日下午，光刻机大厂ASML今日发布了2023年第四季度及全年财报，整体业绩表现高于市场预期。同时，ASML还缺认，个别中国大陆晶圆厂低端DUV光刻机的供应也将受限。
2023年12月中国从荷兰进口光刻机金额同比暴涨1000%！
1月22日消息，据彭博社援引中国海关数据汇总显示，2023年，中国大陆用于芯片制造的半导体设备的进口总额达到了接近400亿美元，同比增长了14%，这也是自2015年有记录以来的第二大进口额，反应了中国积极发展半导体制造业的努力。
荷兰政府提前吊销了高端DUV出口许可！ASML：少数中国客户受影响！
当地时间2024年1月1日，光刻机大厂ASML发布声明称，荷兰政府最近已经部分吊销了2023年发货NXT:2050i和NXT:2100i光刻系统的许可证，影响到了少数中国客户。
中国大陆11月从荷兰进口了16台光刻机，总价值7.627亿美元，同比暴涨1050%！
12月26日消息，据《南华早报》近日报道，中国于11月进口了42台光刻设备，总价值高达8.168亿美元，几乎都来自荷兰和日本。
ASML CEO即将退休，现任COO获提名接任
12月1日消息，根据ASML最新公告显示，荷兰光刻机大厂ASML首席执行官Peter Wennink和首席技术官Martin van den Brink都将在2024年退休，因此提名Christophe Fouquet成为新的总裁兼首席执行官，目前还要等待股东的批准，预计会在2024年4月24日举行的下一次ASML股东大会，在股东们通过提案后后正式接任。
林本坚：浸没式DUV可以做到5nm，但成本将非常高！
11月27日消息，据台媒DigiTimes报道，近日有着“浸润式光刻之父”之称的林本坚（Burn Lin）在接受采访时表示，依靠DUV光刻机继续将制程工艺从7nm推向5nm是可能，但是需要付出高昂的代价。
俄罗斯自研光刻机目标：2024年量产350nm，2026年量产65nm！
11月4日消息，根据俄罗斯媒体报道指出，俄罗斯本身正在研发生产芯片的光刻机。俄罗斯工业和贸易部副部长Vasily Shpak在接受媒体采访时指出，2024年将开始生产350nm光刻机，2026年启动用于生产130nm制程芯片的光刻机。光刻机的生产将在莫斯科、泽列诺格勒、圣彼得堡和新西伯利亚的现有工厂进行。
