标签: 光刻机

ASML中国区总裁沈波:中国ASML机台装机量已接近1400台!

2023年11月5日-10日,第六届中国国际进口博览会(以下简称“进博会”)将在上海全面线下举办。光刻设备领先供应商阿斯麦(ASML)今年也将第五次参加进博会,公司将以“光刻未来,携手同行”为主题,亮相国家会展中心技术装备展区集成电路专区,并首次以互动视频的形式带领观众深度了解ASML包括光刻机台、计算光刻以及光学和电子束量测在内的全景光刻解决方案如何相互协作、支持客户。
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ASML CEO:孤立中国毫无意义,他们会找到解决方案!

据外媒innovationorigins当地时间9月6日报道,全球光刻机龙头大厂ASML首席执行官Peter Wennink接受荷兰新闻电视节采访时,强调了知识移民的必要性,并警告孤立中国的经济后果。Peter Wennink认为,排除知识移民和美国施加的出口限制可能会削弱荷兰。

25年来重大更新!尼康推出5倍缩小的i-line步进式光刻机NSR-2205iL1

8月31日消息,尼康公司通过官网发布公告称,将推出型号为“NSR-2205iL1”的5倍缩小的 i-line 步进式光刻机,该产品将用于制造电力和通信半导体以及 MEMS 等各种器件。与现有的尼康 i-line曝光系统相比,NSR-2205iL1 具有出色的经济性,无论晶圆材料如何,都可以优化各种半导体器件的生产。预计将于2024 年夏季上市销售。
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无需EUV也能实现尖端制程,定向自组装技术再度兴起!

可以说在过去几十年,半导体产业在摩尔定律的推动下持续高速发展。但随着晶体管缩放尺寸逐渐逼近物理极限,半导体工艺制程的推进也越来越困难,“摩尔定律”已死的说法被越来越多的人认同。目前台积电、三星、英特尔等少数的尖端制程制造商,也只能依靠着越来越昂贵的EUV光刻机在艰难的推动半导体制程微缩,但是这依旧面临着非常多的工艺上的挑战以及成本难题。对此,科技界也希望寻找一些新的技术路径来改变目前的半导体制造困境,比如定向自组装(DSA)技术。
TWINSCAN NXT:2000i机器的特写图片。

浸没式光刻技术如何拯救摩尔定律?

2000年代初,芯片行业一直致力于从193纳米氟化氩(ArF)光源光刻技术过渡到157纳米氟(F 2 )光源光刻技术。就像艺术家希望用细线笔代替记号笔来绘制更精确、更详细的图片一样,这种向更小波长的重大转变是业界希望继续缩小晶体管并在芯片上实现更多计算能力和存储功能的希望。然而,意想不到的事态发展证明了将工程推向极限的风险,但物理定律并不同意。