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硬件|EUV光刻的“致命弱点”

EUV光刻的“致命弱点”

几家供应商正在推出下一代检测系统和软件,以定位极紫外(EUV)光刻机工艺引起的芯片缺陷问题。每种缺陷检测技术都涉及到各种权衡,但由于EUV引起的随机缺陷最终会影响芯片的性能,在晶圆厂里使用一项或多项检测技术是非常必要的。

布局光刻机核心器件,华为哈勃投资入股科益虹源

6月4日消息,根据企查查的资料显示,国内高端准分子激光技术厂商北京科益虹源光电技术有限公司(以下简称“科益虹源”)发生工商信息变更,新增华为旗下的哈勃科技投资有限公司(以下简称“哈勃投资”)、徐州光远股权投资合伙企业(有限合伙)及自然人江锐成为公司股东,同时注册资金由12000万元提升至20160万元,增幅达68%。其中,哈勃投资持股4.7619%。

这款30年前问世的光刻机至今仍在使用,助力ASML登上光刻机龙头宝座

5月17日消息,不论是极紫外(EUV)光刻机或是深紫外( DUV)光刻机,都是当前芯片制造不可或缺的关键设备。而在光刻机领域,目前荷兰的艾司摩尔(ASML) 可谓是龙头老大。而在三十多年前,当时还落后竞争对手的ASML,如何能成为今天光刻机市场上的霸主?其关键就在三十年前推出的PAS 5500身上。

2020年中国的光刻设备进口增长97%!

近日彭博社撰文分析称,中国在芯片制造设备的自主率方面还有很长的路要走。去年,中国从海外进口了价值137亿美元的半导体设备,较前一年增长了30%以上,这些机械设备的短缺非常严重,以至于日本的二手机器正在进入中国,且价格大幅上涨。

要攻关光刻机?上海电气股价涨停后紧急澄清

1月8日上午11时左右,一则关于上海电气的消息流出:上海电气已确定2021年旗下企业混合所有制改革及员工持股改革计划。随后。上海电气早盘应声涨停。然而,今天晚间上海电气盘后却发布了澄清公告。