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ASML High-NA EUV 光刻机最新进展:目标2024-2025年进厂

光刻机在半导体领域一向是个热门话题,这个能一次又一次突破工艺极限的设备仿佛一个时光机器,连接着芯片的现在和未来。从ASML宣布将推出下一代光刻机开始,人们的目光就从当前最新一代的0.33 NA光刻系统转移到了下一代0.55NA 光刻系统身上。
ASML新一代EUV光刻机万事俱备:逼近物理极限

ASML新一代EUV光刻机万事俱备:逼近物理极限

光刻机在半导体领域一向是个热门话题,这个能一次又一次突破工艺极限的设备仿佛一个时光机器,连接着芯片的现在和未来。从ASML宣布将推出下一代光刻机开始,人们的目光就从当前最新一代的0.33 NA光刻系统转移到了下一代0.55NA 光刻系统身上。

imec展示最新High-NA EUV技术

近日,比利时微电子研究中心(imec)于国际光学工程学会(SPIE)举行的先进光刻成形技术会议上,展示其High-NA(高数值孔径)光刻技术的重大进展,包含显影与蚀刻制程开发、新兴光刻胶与涂底材料测试、以及量测与光罩技术优化。imec与台积电、英特尔等国际大厂有密切合作,业界预期先进制程在2025年之后将进入埃米(angstorm)时代,High-NA技术将是量产关键。
最后期限已至,台积电等数十家半导体企业已向美国提交资料-芯智讯

传台积电为尽快拿到设备“加价下单”!

4月19日消息,由于各大晶圆厂商新建晶圆厂所需的关键设备交期持续拉长,有市场传闻指出,台积电已多次派高层直接与设备供应商谈判,甚至以“加价购买”模式下单,以提早拿到设备。
日本限制对韩出口的背后:控制了全球52%的半导体材料市场

ASML CEO访韩或与三星洽谈合作,英特尔CEO也将再访台积电

4月6日消息,据外媒报道,英特尔CEO基辛格正启程前往亚洲拜访客户和供应商。此行也将到访中国台湾并拜访台积电,这也是他继去年12月与台积电高层会面后的第二次会晤。此外,荷兰半导体设备制造商ASML(阿斯麦)CEO彼得·温宁克(Peter Wennink)也正在韩国与当地头部晶圆厂讨论合作。从英特尔与ASML高层频频到亚洲的行动来看,也凸显出两大厂都意识到亚洲在全球半导体业的重要地位。

投资6.7亿卢布,俄罗斯宣布研发X射线光刻机!比ASML的EUV光刻机还要先进?

光刻机是半导体行业的明珠,美国希望在这个领域牢牢掌握主动权,因此对中俄等均进行严格的限制和制裁,中国一直没有最先进的EUV光刻机。而在俄乌冲突之际,昨天,美国更是对俄罗斯最大的芯片制造企业Mikron进行全方位制裁。近日,据俄罗斯媒体报道称:俄罗斯将研发当前全球最先进的X射线光刻机,或许比ASML的EUV光刻机性能更先进。