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传中芯国际14nm良率已达95%,可追平台积电

3月10日上午,据“选股宝”爆料称,从供应链获悉,中芯国际14nm制程工艺产品良率已追平台积电同等工艺,水准达约90%-95%。与此同时,中芯国际各制程产能满载,部分成熟工艺订单已排至2022年。

关键零件的供应受限,ASML产能难以满载

1月21日消息,全球光刻机大厂ASML(艾司摩尔)在日前的2020 年第4 季与全年财务电话会议上透露,2020年全年ASML营收达到140亿欧元,其中有45 亿欧元的收入来自EUV(极紫外光微影)设备的销售,而DUV(深紫外光微影)设备则是创下73亿欧元的纪录。总裁暨执行长Peter Wennink 表示,2021 年的EUV 设备供应仍将因关键元件备货不足而持续吃紧。
ITF Japan 2020

ASML携手imec完成了可用于1nm芯片制造的EUV光刻机的设计

imec首席执行官兼总裁Luc Van den hove做了主题演讲,概述了该公司的研究,该公司和ASML密切合作,共同开发了下一代高分辨率EUV光刻技术,即High NA EUV。他强调说,通过将光刻技术投入实际使用,摩尔定律将不会终止,并且该工艺将继续改进到1 nm或更小。