标签: ASML

ITF Japan 2020

ASML携手imec完成了可用于1nm芯片制造的EUV光刻机的设计

imec首席执行官兼总裁Luc Van den hove做了主题演讲,概述了该公司的研究,该公司和ASML密切合作,共同开发了下一代高分辨率EUV光刻技术,即High NA EUV。他强调说,通过将光刻技术投入实际使用,摩尔定律将不会终止,并且该工艺将继续改进到1 nm或更小。
90%零件需全球采购 制造一台光刻机究竟有多困难

90%零件需全球采购,制造一台光刻机究竟有多困难?

近段时间有关芯片以及光刻机的话题非常热门,我们今天也来探讨一下光刻机的话题。一台能生产先进工艺芯片的光刻机后面究竟需要多少供应链去支持?制造一台光刻机需要多少个国家的公司参与其中?看看制造一台光刻机究竟有多困难。