荷兰经济部长：ASML必须被允许“尽可能自由地开展业务”！
9月23日消息，据路透社报道，荷兰经济部长德克·贝利亚茨（Dirk Beljaarts）于当地时间周一在访问美国华盛顿时强调了中国作为荷兰贸易伙伴的重要性，并重申荷兰半导体设备制造商ASML必须被允许“尽可能自由地开展业务”。
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荷兰政府从美国收回两款ASML光刻机的出口管制权
9月6日，荷兰政府今天发布了关于两款浸没式 DUV（深紫外光） 光刻机出口的最新许可要求，该规定将于9月7日正式生效。
上半年中国大陆半导体设备支出达250亿美元，超过韩国、中国台湾、美国总和
2024年上半年的中国大陆在半导体制造设备上的支出达到250亿美元（约合人民币1780.55亿元），超过了韩国、中国台湾和美国的总和。
日本携手英特尔建先进半导体研发中心，将配备EUV光刻机
据日经亚洲（Nikkei Asia）9月3日报导，美国处理器大厂英特尔已决定与日本官方研究机构在日本设立先进半导体研发中心，以提振日本半导体设备制造与材料产业。
为确保盟友跟进对华半导体限制政策，美国威胁“长臂管辖”及加征关税！
9月2日消息，据彭博社报道，针对日本政府进一步限制向中国企业出售芯片制造设备和提供售后服务，中国或将对日本祭出严厉的反制政策。
ASML对华业务将受到更多限制？荷兰首相最新表态
近日，在美国施压荷兰政府，将限制荷兰半导体设备制造商ASML停止对在华高端DUV设备进行维护的消息传出后，荷兰首相迪克·肖夫于当地时间8月30日在接受采访时回应称，在决定是否收紧对ASML芯片制造设备对华出口的规定时，荷兰政府将把该公司的经济利益纳入考量。
ASML在华高端DUV设备的维护将受限？
8月29日消息，最新的业内消息显示，荷兰政府计划限制ASML在中国维修半导体设备的能力，这或将对于中国提升先进制程制造能力的努力造成打击。
ASML CEO：中国芯片技术落后美国10年，世界仍需要中国生产的传统芯片
8月19日消息，据外媒wccftech报道，光刻机大ASML首席执行官（CEO）克里斯托夫·富凯（Christophe Fouquet）此前曾向德国媒体Handelsblatt提供的声明中提到，欧洲在半导体制造自给自足还有很长路要走，他表示，虽然中国芯片技术落后美国10年，但全世界仍需要中国生产的“传统芯片”。
日本提出EUV光刻新方案：光源功率可降低10倍，成本将大幅降低！
8月7日消息，近日日本冲绳科学技术大学（OIST）的Tsumoru Shintake教授带领的研究团队提出了一项全新、大幅简化的面向极紫外（EUV）光刻机的双反射镜系统。相比传统的至少需要六面反射镜的配置，新的光学投影系统仅使用了两面反射镜，在确保系统维持较高的光学性能的同时，能让EUV光线以超过初始值10%的功率到达晶圆，相比传统系统中仅1%的功率来说，提了高到了原来的10倍，可说是一大突破。
ASML专家访谈纪要整理：美国限制之下，中国芯片制造如何突围？
访谈内容：关于新的出口管制影响、ASML中国的应对举措、国产先进制程制造能力现状、半导体产业链国产化之路
将EUV扩展到1.4nm的关键技术
前三大晶圆代工厂计划最早于2025年在18埃米这一制程节点实验高数值孔径（High NA）EUV光刻技术，但依然会采用标准EUV（NA = 0.33）来进行量产，这主要是考虑它是否能以合理的每片晶圆成本提供更好的结果。
传美国将升级对华半导体限制：120个中国实体将被禁，涉及晶圆厂、设备商、EDA厂商！
7月31日消息，据路透社援引两名消息人士的话报道称，美国拜登政府计划下个月公布一项新的出口管制规定，将进一步扩大美国的管制权力，以阻止一些国家向中国芯片制造商出口相关半导体制造设备。但是，此前已经参与美国针对半导体出口管制的盟友——包括日本、荷兰和韩国将会被排除在外，从限制了该该规则的影响。因此，荷兰ASML、日本东京电子等主要半导体设备制造商不会受到影响。
