ASML受限光刻机在华维护问题“悬而未决”！
据外媒报道，在美国联合日本、荷兰升级对于半导体设备的出口限制之后，美国正要求荷兰盟友对中国芯片制造设备的维护施加更多限制。
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ASML NXE:3800E导入全新工件台运动系统，效率提升22%
3月28日消息，据荷兰媒体Bits & Chips报导，光刻机大厂ASML确认，其新推出的第三代的标准型（0.33 NA）EUV光刻机NXE:3800E导入部分High-NA EUV技术，工作效率提升。
今年1-2月中国从荷兰进口了32台光刻机
2023年6月，荷兰宣布了出口管制禁令，根据相关出口法规，自2024年1月1日起，中国大陆的企业将很难获得出口许可证。因此，从2023年下半年起，我国从荷兰进口光刻机金额呈现爆发式增长。那么进入2024年，我国从荷兰进口光刻机情况如何？
ASML第三代标准型EUV光刻机NXE:3800E出货，每套价格约1.8亿美元
3月19日消息，据外媒报导，光刻机大厂ASML开始对外交货其第三代标准型极紫外（EUV）光刻机，新设备型号为Twinscan NXE:3800E，0.33数值孔径透镜，可以支持几年内的3nm及2nm芯片制造。
ASML计划将公司搬走，荷兰政府急了
据路透社等外媒报道，全球光刻机巨头——荷兰ASML正计划将公司搬离荷兰。
High NA EUV主要部件已经启动，达成“第一道光”里程碑！
2月29日消息，据外媒Tomshardware报导，ASML与英特尔于本周宣布达成了High NA EUV的重要里程碑。ASML已向英特尔交付的最先进High NA EUV光刻机Twinscan EXE:5000的主要部件已经启动，即首度打开光源并使光线到达晶圆上的抗蚀层，并开始运作，表示光源和反射镜已正确对准。这是High-NA EUV光刻机启动过程中的关键一步，尽管目前尚未达到峰值性能。
中国厂商大肆采购成熟制程半导体设备，ASML及东京电子受益
2月27日消息，据《华尔街日报》报导，虽然在美日荷的联合限制下，中国厂商采购先进半导体制造设备受到了限制，这也导致中国芯片制造商转向扩大成熟制程产能，这也推动了中国芯片制造商对于成熟制程设备的需求，日本东京电子、荷兰ASML厂商也得以继续从中受益。
三星清空全部ASML股票，累计获利超16倍！
据韩联社2月21日报道，根据三星公布2023年度会计报告书显示，三星在2023年第四季度清空了其持有的荷兰光刻机厂商ASML的剩余全部股份158.04万股（持股比例0.4%），预计套现约1.2万亿韩元（约合人民币65亿元）。
担心被用于军事目的，荷兰撤回部分ASML对华出口许可
2月20日消息，据路透社报道，荷兰贸易部长范李文（Geoffrey van Leeuwen）近日在接受采访时表示，由于担心半导体设备龙头ASML的光刻机被用于军事目的，因此近期已决定撤回ASML对中国出口部分产品的许可证。
成本难题可解？ASML：Hyper NA EUV光刻机有望2030年商用！
继不久前对外公开展示了面向2nm以下尖端制程制造的High NA EUV光刻机之后，近日，AMSL在其2023年度报告当中还披露了其未来更为先进的Hyper-NA EUV技术的进展，并预计Hyper-NA EUV光刻机可能将会在2030年之际开始商用，为未来更尖端的芯片生产技术提供助力。
单台3.5亿欧元！ASML首次公开展示High NA EUV光刻机：拐点将在2026年左右到来！
近日，全球光刻机大厂ASML展示了最新一代的High NA EUV光刻机，除了已经率先获得全球首台High NA EUV光刻机的英特尔之外，台积电和三星订购High NA EUV预计最快2026年陆续到位，届时High NA EUV将成为全球三大晶圆制造厂实现2nm以下先进制程大规模量产的必备“武器”。
关于High NA EUV光刻，你应该了解的5件事
经过十年的研发，ASML 于 2023 年 12 月正式向英特尔交付了首个High-NA（高数值孔径）EUV 光刻系统——TWINSCAN EXE:5000的首批模块， 代表着尖端芯片制造向前迈出了重要一步。
