ASML：NXT:1970i和NXT:1980i对个别大陆厂商供应也将受限！
北京时间2024年1月24日下午，光刻机大厂ASML今日发布了2023年第四季度及全年财报，整体业绩表现高于市场预期。同时，ASML还缺认，个别中国大陆晶圆厂低端DUV光刻机的供应也将受限。
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2023年12月中国从荷兰进口光刻机金额同比暴涨1000%！
1月22日消息，据彭博社援引中国海关数据汇总显示，2023年，中国大陆用于芯片制造的半导体设备的进口总额达到了接近400亿美元，同比增长了14%，这也是自2015年有记录以来的第二大进口额，反应了中国积极发展半导体制造业的努力。
荷兰政府提前吊销了高端DUV出口许可！ASML：少数中国客户受影响！
当地时间2024年1月1日，光刻机大厂ASML发布声明称，荷兰政府最近已经部分吊销了2023年发货NXT:2050i和NXT:2100i光刻系统的许可证，影响到了少数中国客户。
中国大陆11月从荷兰进口了16台光刻机，总价值7.627亿美元，同比暴涨1050%！
12月26日消息，据《南华早报》近日报道，中国于11月进口了42台光刻设备，总价值高达8.168亿美元，几乎都来自荷兰和日本。
ASML开始向英特尔交付首套High-NA EUV光刻机，售价超3亿美元
当地时间12月21日，荷兰光刻机大厂ASML通过社交媒体X平台宣布，其首套High-NA EUV光刻机正从荷兰Veldhoven总部开始装车发货，将向英特尔进行交付。
传英特尔已采购了6套High-NA EUV光刻机
12月19日消息，据外媒sammobile的报道，韩国三星日前与荷兰半导体设备商ASML签署了价值1万亿韩元（约7.55亿美元）的协议，两家公司将在韩国投资建造半导体芯片研究工厂，并将在该研究工厂开发新一代EUV半导体制造技术。三星电子副董事长兼设备解决方案部门负责人Kyung Kye-hyun强调，两家公司的最新协议将帮助其获得下一代High-NA EUV光刻机。
ASML将与三星共同投资54.5亿元在韩国建研发中心
12月13日消息，光刻机大厂ASML宣布，已与韩国三星电子签署备忘录，将共同投资1万亿韩元（约合人民币54.5元）在韩国建立研究中心，并将利用下一代极紫外（EUV）光刻机研究先进半导体制程技术。另外，ASML也宣布与SK海力士签署ESG备忘录，双方在包括环境、社会和公司治理项目展开合作。
斥资100亿美元！纽约州携手IBM/美光/应用材料/东京电子建High-NA EUV研发中心
12月13日消息，当地时间11日，美国纽约州长Kathy Hochul宣布，与包括IBM、美光、应用材料（Applied Materials）、东京电子（Tokyo Electron）等半导体大厂达成一项合作协议，预计将投资100亿美元在纽约州Albany NanoTech Complex（奥尔巴尼纳米技术综合体）兴建下一代High-NA EUV半导体研发中心，以支持世界上最复杂、最强大的半导体的研发。
尼康宣布推出全新ArF浸没式光刻机NSR-S636E，生产效率提升15%
12月9日消息，根据日本光刻机大厂尼康（Nikon）官方消息，其将于2024年1月正式发布ArF浸没式光刻机NSR-S636E。尼康称，作为半导体生产过程中关键层的曝光系统，NSR-S636E具有尼康历史上更高的生产效率，并具有高水准的套刻精度和生产速度，可为尖端半导体器件中的 3D 等器件结构多样化的挑战提供解决方案。
传台积电2024年资本支出或将降至280亿美元
12月5日消息，有市场传闻称，台积电因部分制程机台设备可共享，加上部分递延预算将在今年动用，明年资本支出可能降为280亿美元至300亿美元，较今年下滑6.3%至12.5%，恐下探近四年来低点，由此也将导致降低对于半导体设备的下单量。
三星自研EUV光罩保护膜透光率已达90%
12月4日消息，据韩国媒体Business Korea报导，三星电子DS部门研究员Kang Young-seok表示，三星使用的EUV光罩保护膜（EUV pellicles）透光率（transmission rate）已达90%，计划将进一步提高至94-96%。
