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荷兰半导体设备出口限制新规详解

当地时间6月30日,荷兰政府正式颁布了有关先进半导体设备的额外出口管制的新条例。正如其在今年三月发布的消息中所述,这些新的出口管制条例主要针对的对象为先进的芯片制造技术,包括先进的沉积设备和浸润式光刻系统。该措施将于2023年9月1日正式生效。
每种曝光技术每晶体管成本的转变和未来预测

ASML透露0.75 NA EUV光刻设备或​将在2035年到来!

据日本媒体mynavi报道称,ASML 首席商务官 (CBO) Christophe Fouquet 近日在比利时 imec 的年度盛会 ITF World 2023 上发表了题为“Extending Lithography into the 2030s to Support the World-Changing Semiconductor Industry”的演讲。他在演讲中强调需要2030年代开发NA=0.75的超高NA EUV曝光技术。
荷兰光刻机零部件供应商KMWE在中国开设工厂

荷兰光刻机零部件供应商KMWE在中国开设工厂

5月24日消息,据外媒报道,荷兰知名精密零部件制造商、ASML重要的上游供应商KMWE在中国开设了一家工厂,以规避半导体技术出口限制。据悉新的分公司将在中国生产与马来西亚分公司相同的产品,但专门面向中国市场。报道还提及,另一家设备制造商NTS在中国设有子公司已有一段时间了。
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美“澄清”新规限制!泛林集团:可新增价值“数亿美元”的设备对华出口!

近日,半导体设备制造商美国泛林集团(Lam Research)和荷兰艾司摩尔(ASML)相继公布了最新一季的财报,季度收益均超过了分析师预期。尽管美国和荷兰相继开始限制先进半导体设备对中国大陆的出口,但两家半导体设备大厂均预估今年在中国大陆的销售额仍将保持增长。泛林集团还透露,已收到了美国政府对去年10月出台的对华出口管制新规的澄清,发现原本认为受禁的价值“数亿美元”的设备对华出口!