2019年11月21-22日，一年一度的中国集成电路设计业年会(ICCAD 2019)在六朝古都南京召开，作为全球领先的电子设计自动化(EDA)工具提供商—— Mentor, a Siemens Business再次积极赞助和参与此次行业盛会，并通过全面的展览展示、高峰论坛及专题论坛发言等方式，推动中国集成电路设计行业迈向芯片与系统协同发展、高质量效益实现创新的新阶段。

“中国集成电路设计业2019年会暨南京集成电路产业创新发展高峰论坛”的举办，正值中国各级政府大力推动自主创新，国家集成电路产业投资基金进一步布局，国内相关行业和企业在第五代移动通信(5G)、人工智能、自动驾驶汽车、先进数据中心、高性能计算和物联网等新兴技术领域不断实现突破的新一轮创新浪潮兴起之际，诸多应用行业中的自主创新带来了对新一代芯片产品的强烈需求，促使国内集成电路设计企业以及EDA工具行业要从更多的维度和更新的模式去规划发展蓝图。

新维度一：创新主体

Mentor荣誉CEO Walden C. Rhines博士在ICCAD 2019的高峰论坛上表示：当前全球集成电路设计行业有三个值得关注的产业群体，即越来越广泛、深入地推动和实现自用芯片设计的系统厂商，在近两年中赢得了投向全球无晶圆半导体公司的风险资本的主要份额的人工智能(AI)和机器学习特定处理器设计企业，以及获得了政府和投资领域广泛支持并且数量和规模都在急剧扩大的中国集成电路设计企业群体。

作为最早来到中国的全球领先EDA工具提供商之一，Mentor在与中国集成电路产业协同发展的进程中，已经在中国建立了最完善、最全面的支持服务网络。而在被西门子集团收购之后，原本已引领全球EDA工具行业发展的Mentor有了更加丰富的资源来支持上述三个产业群体，特别是中国集成电路设计企业这一群体将从中受益匪浅。

作为每年集成电路设计年会的重头戏，清华大学魏少军教授在高峰论坛上的主题报告继续吸引了行业内外的高度关注。魏教授的报告指出，全国共有1780家集成电路设计企业并继续保持了升势，预计全行业2019年销售收入将首次突破3000亿元;但我国芯片设计业尚不能满足市场的需求，“需求旺盛，供给不足”依然是当前面临的根本矛盾。这与Walden的报告形成了相互呼应，成为了如今拥有更丰沛资源的Mentor继续保持创新和扩大中国服务网络的新动力。

新维度二：创新工具

Mentor的EDA工具涉及高层级逻辑综合、RTL低功耗优化与分析、功能性验证、模拟与混合信号设计流程、MEMS设计流程、芯片的设计制造与测试以及集成化PCB -FPGA开发、电子系统级设计等，可以帮助工程师们攻克设计难题，从而应对所在领域内日益复杂的电路板和芯片设计的方方面面。Mentor在今年ICCAD上的展台以“New Era of IC to Systems Design” 为主题，表达了Mentor乐意利用现有以及不断拓展的从Smart IC 到系统级设计的深厚专业知识与特长，与客户成为合作伙伴，并协同创新去共同绘就更宏伟IC蓝图的思路、信心与诉求。

Mentor成为西门子一部分之后，不仅已经打造了业界独一无二的、融合从先进应用系统设计到其中芯片设计的产品组合，同时还把西门子在近几年收购的多家领先集成电路设计企业的先进技术现有软件融合，并通过其全面的服务网络为中国的集成电路设计行业及应用系统企业在最前沿、最先进的创新领域带来了全新的解决方案。

例如先进驾驶辅助系统(ADAS)和自动驾驶汽车电子芯片及系统开发是一个全球性的热点，不少中国企业也在此领域不断开疆拓土形成突破，在Mentor已有的芯片设计和汽车相关设计的工具链基础上，西门子收购了拥有突破性芯片功能安全性技术的Austemper设计系统公司，并将其在ISO26262功能安全性测试方面的专业知识和Mentor的芯片设计与验证技术进行了充分融合。

当然，今天的Mentor与西门子正在带给中国芯片设计业的还有更多，比如收购拥有5G相关技术的Sarokal测试系统公司等等，他们将给中国客户在诸如数字工厂、5G、人工智能、ADAS与自动驾驶汽车、先进数据中心、高性能计算、边缘智能和物联网先进芯片领域内的创新提供新的支持。

新维度三：创新实现

与此同时，在另一个维度上，Mentor亦前瞻地看到中国芯片设计企业在未来的发展中，尽管得到了自主创新等国策的大力支持，但是与国外和国内同行的竞争亦将更具激烈，走高质量效益增长之道成为必然。为此，Mentor在此次集成电路设计年会上也带来了更全面的设计工具组合，以帮助国内芯片设计企业不仅能够用最佳的性能、功耗和面积(PPA)组合来实现其设计，而且还可实现更高的晶圆良率和更快的设计周期。

在ICCAD 2019的“EDA与IC设计创新”专题论坛上，Mentor中国区资深技术经理牛风举做了题为“Calibre YieldEnhancer解决方案及设计流程”的精彩报告，其报告中提及的Mentor的世界领先DFM解决方案Calibre工具深深吸引了与会行业听众。Calibre的成员工具YieldEnhancer在基于充分的DFM分析基础上，利用SmartFill等技术来对芯片布局进行修改优化，不仅可以实现晶圆良率的提升，而且可以适用于最广泛的应用、晶圆代工厂和工艺。

Mentor系列工具的创新技术、特有功能和验证成熟度正在成为中国集成电路设计人员解决痛点、设计企业实现高质量效益发展的重要支撑。在Mentor的展台上，Mentor中国区的工程师接待了络绎不绝的观众，他们就Mentor的Questa系列验证解决方案、Calibre面向制造的设计解决方案、Tanner系列模拟与混合信号电路及MEMS设计工具等话题展开了充分的交流，新老客户同时也对Mentor收购和自主研发的许多新工具和产品充满了期待。

结语

纵观本届中国集成电路设计年会，已经深耕中国市场三十年、与中国集成电路设计业共同成长的Mentor看到了中国企业新的创新领域，也看到了行业发展的未来模式，下一步Mentor将与客户及产业合作伙伴携手并进，为推动中国在集成电路领域内的技术创新与生态发展提供更及时、更全面的支持。