根据华海清科官方公众号发布的消息，7月30日，华海清科CMP国产设备在单一客户中芯国际生产晶圆突破百万片。
据介绍，从2015年8月4日华海清科第一台设备进入中芯国际，与中芯国际团队密切合作，深入交流，短短半年通过验证，迅速取得了多台CMP订单。CMP工艺做到了全覆盖，包括SI，ILD，STI，BSI，W，POLY，Cu，不断刷新着国产CMP设备在中芯量产破百片、破千片、破万片，突破百万片的加速度，同时也打破了CMP设备依靠国外进口壁垒。目前，华海清科CMP设备已批量进入国内各大集成电路生产线。
△在庆祝仪式上，华海清科董事长兼首席科学家路新春从中芯北方总经理张昕手里接过奖杯
CMP是化学作用和机械作用相结合的组合技术，其工作原理是，旋转的晶圆以一定的压力压在旋转的抛光垫上做相对运动，借助纳米磨料的机械研磨作用与各类化学试剂的化学作用的高度有机结合来实现平坦化要求。这一过程中应用到的就是CMP设备，所需的材料主要包括抛光液和抛光垫。
根据官网资料显示，华海清科成立于2013年，是天津市政府与清华大学践行“京津冀一体化”国家战略，为推动我国化学机械抛光（CMP）技术和设备产业化成立的高科技企业。
华海清科主要从事CMP设备和工艺及配套耗材的研发、生产、销售与服务，核心团队成员来自清华大学摩擦学国家重点实验室及业内专业人才，产品可广泛应用于极大规模集成电路制造、封装、微机电系统制造、晶圆平坦化、基片制造等领域。
编辑：芯智讯-林子 来源：华海清科
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