2月20日消息，据韩国媒体媒The Elec报道，由于SK海力士使用的锆(Zr)基High-K材料存在质量问题，导致SK海力士DRAM工厂的部分设备一度暂停运作。

据知情人士透露，SK 海力士已发现是材料供应商 SK Trichem 供应的Zr基High-K材料存在问题，并通知SK Trichem暂停供应，直到问题完全解决为止。

SK海力士表示，已立即清洁工厂产线，因此产量没有受到影响。不过，该公司正在调查这起事件，并要求SK Trichem赔偿因设备停摆及更换零件所造成的损失。因为 SK Trichem 提供给SK海力士的 Zr 基High-K材料比其竞争对手要多得多。

SK Trichem回应称，预计在本月底前完成品质改善，向SK海力士恢复正常供货。

SK Trichem指出，这起事件的主因是High-K材料的纯度不足，导致部分设备承受的压力增加，进而被迫暂停运作。

预计SK Trichem的竞争对手将从此次事件中直接受益。UP Chemical和M Chemical（前身为Meccaro Chemical Division）获得的采购订单量将立即增加。专家观察，订单将以5：5或6（UP Chemical）：4（M Chemical）进行划分。

据了解，SK Trichem提供的Zr基High-K材料也称为前驱体或前驱体。它是指在通过化学反应成为特定物质之前呈溶剂形式的物质。DRAM 的高 K 前驱体薄薄地沉积在电容器上的原子层单元中，电容器是 DRAM 的关键元件。DRAM 根据电容器中是否存储电荷来区分 0 和 1。随着线宽变窄，必须沉积具有高介电常数的高K材料以解决电容器间干扰的问题。换句话说，高K材料是对DRAM生产经营有重大影响的关键材料。

一位业内人士表示，“基于铪（Hf）的前驱物主要用于最先进的DRAM工艺，但由于它们与基于Zr的前驱物并行使用，SK海力士采用存在质量问题的SK trichem材料生产的DRAM晶圆都将受到影响。”他说：“肯定是出现了问题。目前尚不清楚金额是多少，但考虑到相关企业正在讨论法律赔偿要求，这有可能会影响整体市场供需。”

SK Trichem 是 SK 集团的材料子公司，由 SK Materials 与日本三化学研究所 (TCLC) 合资成立。2021年，SK Materials的控股事业部被吸收并入SK，成为SK的子公司，SK Corp.持股65%，TCLC持股35%。SK Trichem 在 2020 年和 2021 年连续两年的年销售额都达到了 1500 亿韩元，但由于去年对 SK 海力士的供应急剧增加，估计销售额超过了 2000 亿韩元。

值得注意的是，在今年2月，存储芯片大厂铠侠位于日本的两座闪存（NAND Flash）芯片工厂也曾由于生产闪存芯片的材料受到污染而一度停工，损失数量达到了7EB，金额约2亿美元。

编辑：芯智讯-浪客剑