1月3日，证监会披露了关于同意深圳市龙图光罩股份有限公司（以下简称“龙图光罩”）首次公开发行股票注册的批复，同意龙图光罩科创板IPO注册申请。

招股书显示，龙图光罩主营业务为半导体掩模版的研发、生产和销售，是国内稀缺的独立第三方半导体掩模版厂商。公司紧跟国内特色工艺半导体发展路线，不断进行技术攻关和产品迭代，半导体掩模版对应下游半导体产品的工艺节点从 1μm 逐步提升至130nm，产品广泛应用于功率半导体、MEMS 传感器、IC 封装、模拟 IC 等特色工艺半导体领域，终端应用涵盖新能源、光伏发电、汽车电子、工业控制、无线通信、物联网、消费电子等场景。

目前，龙图光罩已掌握 130nm 及以上节点半导体掩模版制作的关键技术，形成涵盖CAM、光刻、检测全流程的核心技术体系。在功率半导体掩模版领域，公司工艺节点已覆盖全球功率半导体主流制程的需求。

经过多年发展，龙图光罩已与众多知名客户建立了长期稳定的合作，并形成了优质的客户结构，如：中芯集成、士兰微、积塔半导体、华虹半导体、新唐科技、比亚迪半导体、立昂微、燕东微、粤芯半导体、长飞先进、扬杰科技、英集芯、芯朋微、斯达半导体、清华大学、上海交通大学等，客户不仅涵盖芯片制造厂商、MEMS传感器厂商、先进封装厂商、芯片设计公司，还包括进行基础技术研究的知名高校及科研院所。

财务数据方面，2020年、2021年、2022年、2023年1-6月，龙图光罩分别实现营业收入0.53亿元、1.14亿元、1.62亿元、1.03亿元，其中2020年—2022年年均复合增长率高达75.09%；同期实现净利润分别为1447.87万元、4116.42万元、6448.21万元、4019.61万元，整体也呈现快速增长态势。

龙图光罩称，公司以特色工艺半导体市场为切入点，紧扣国内半导体厂商的发展需求，不断提升掩模版工艺技术水平和客制化服务能力，逐步进入国内多个大型特色工艺晶圆厂供应商名录，一定程度上推动了我国半导体掩模版产业的国产化。

龙图光罩预计2023年营业收入2.1亿元—2.3亿元，同比增长30.00%—42.38%；预计2023年净利润8200万元—8500万元，同比增长27.17%—31.82%。

值得一提的是，根据招股书显示，龙图光罩主要原材料和光刻机采购依赖于境外且集中度较高。公司的主要原材料为石英基板、苏打基板和光学膜等。石英基板和光学膜技术难度较大，供应商主要集中于日本、中国台湾等地，公司的原材料存在一定的进口依赖。2020年、2021年、2022年、2023年1-6月，公司向前五大供应商采购原材料的金额占原材料总采购金额占比分别为82.73%、84.62%、88.08%和85.50%。公司主要生产设备，如光刻机主要向境外供应商采购。

对于此次IPO，龙图光罩拟公开发行不超过3,337.50万股人民币普通股（A股），预计使用6.632亿元募集资金，主要用于高端半导体芯片掩模版制造基地项目、高端半导体芯片掩模版研发中心项目、补充流动资金项目。

其中，高端半导体芯片掩模版制造基地项目是通过对龙图光罩现有核心产品的技术升级，实施更高制程（130nm-65nm节点）半导体掩模版的开发及产业化，以创新型、高性能、高品质产品满足更高端的市场要求，加速实现130nm工艺节点以下半导体掩模版的国产替代进程，同时提升公司的竞争力与盈利能力。

龙图光罩表示，未来公司将跟随国家半导体行业发展战略，围绕高端半导体芯片掩模版领域，持续加大研发投入和资金投入，逐步实现90nm、65nm以及更高节点的高端制程半导体掩模版的量产与国产化配套，形成“深耕特色工艺，突破高端制程”的发展战略和思路。

未来三至五年，龙图光罩将利用现有的优势和产品竞争力，扩大国内特色工艺半导体市场掩模版的市场占有率，同时大力推进高端半导体芯片掩模版项目建设，实现高端半导体掩模版技术突破，不断提升制程节点。

编辑：芯智讯-林子