据韩国经济日报报导，5月13日韩国产业通商资源部（The Ministry of Trade, Industry and Energy，MOTIE）对外宣布，全球光刻机龙头大厂艾司摩尔（ASML）计划赴韩国打造EUV 再制造（remanufacturing）厂及培训中心。

据介绍，ASML未来4年将在韩国投资2,400亿韩元（2.1亿美元），于京畿道华城市打造一座EUV光刻设备再制造厂以及一家培训中心。所谓再制造，是指通过必要的拆卸、检修和零部件更换等，将废旧产品恢复如新的过程。

想要打造先进制程的半导体生产线，一定要设法取得关键半导体设备。应用材料、ASML、泛林半导体、东京电子是全球前四大半导体设备厂商，总体的市占率高达60%左右。问题是，这些半导体设备厂每年只能生产一定数量的机台，交货时间也比较长。

特别是对于7nm以下先进制程所必须的EUV光刻机来说，目前ASML是全球唯一一家能够生产EUV光刻机的半导体设备供应商。但是目前ASML的EUV光刻机产能十分有限，一年只能生产30台左右EUV光刻机。据韩国媒体报道称，目前台积电已取得了50台EUV设备，而三星仅有10台。

此次ASML计划在韩国新建的EUV再制厂，主要用途就是为韩国当地运行的EUV光刻机维护、升级提供助力。

据了解，韩国MOTIE及京畿道政府将针对ASML的授权、扩张当地业务事宜提供协助。而上述设施预计2025年底前落成，未来将在韩国聘用超过​​300名专业人才。

另外值得一提的是，报道还指出，目前美国半导体设备大厂泛林半导体（Lam Research Corp.）将扩大对韩国的投资南。报道引述业界消息指出，泛林半导体已将韩国的生产目标提高一倍，正在寻找合适的地点建立新厂，以便扩充产能。

编辑：芯智讯-林子