6月30日晚间，上海新阳发布公告，宣布公司自主研发的KrF （248nm）厚膜光刻胶产品近日已通过客户认证，并成功取得第一笔订单。

众所周知，光刻胶是半导体芯片制造过程中所必须的关键材料。由于目前光刻机曝光光源一共有六种，分别是紫外全谱（300～450nm）、 G 线（436nm）、 I 线（365nm）、深紫外（DUV，包括 248nm 和 193nm）和极紫外（EUV），相对应于各曝光波 长的光刻胶也应运而生，对应分别为，G 线光刻胶、I 线光刻胶、KrF光刻胶、 ArF光刻胶、EUV光刻胶。

目前，在全球半导体光刻胶领域，主要被日本合成橡胶（JSR）、东京应化（TOK）、罗门哈斯、日本信越和富士材料等头部厂商所垄断。其中，在高端半导体光刻胶市场上，全球的 EUV 和 ArF光刻胶主要是 JSR、陶氏和信越化学等供应商，占有份额最大的是 JSR、信越化学，TOK 也有研发。

根据中国产业信息网数据显示，2019年我国 PCB光刻胶产值占比为94.4%，早已实现了国产化替代，但是在 LCD 和半导体用光刻胶产值占比仅分别为 2.7%和 1.6%，且主要集中在i线和G线光刻胶，在ArF光刻胶和KrF光刻胶领域仍主要依赖于进口。

上海新阳表示，KrF（248nm）厚膜光刻胶产品的开发和产业化是公司第三大核心技术——光刻技术的重要方向之一，本次产品认证的通过及订单的取得，标志着“KrF（248nm） 厚膜光刻胶产品的开发和产业化” 取得了成功，为公司在光刻技术领域目标的 全面完成奠定了坚实基础。

随着国内晶圆厂建设的不断增多，以 及国外光刻胶巨头产能受限，供需紧张，国内对光刻胶产品的需求也将快速增长，上海新阳光刻胶产品的订单取得意义重大，将对公司该类产品的认证及销售产生积极 的作用，有利于公司业务的长期发展。

值得一提的是，在ArF光刻胶领域，南大光电的ArF光刻胶已经在去年通过了客户使用认证。

编辑：芯智讯-浪客剑