1月23日消息，根据韩国“经济日报”的报道，韩国计划针对商业技术窃取和外泄实施更严厉的罚则。因为随着商业技术窃取案件的增加，已经对韩国大型企业集团造成了打击。因此，韩国相关司法单位提议，预计将国家级尖端技术的窃取与外泄的惩罚提高三倍，最高可以达到18年有期徒刑。

报道指出，韩国最高法院量刑委员会日前表示，预计将技术窃取与与外泄列为不同的刑度类别，这将使得技术窃取和外泄技术的行为将被分开处理，使法官能够对涉嫌人给予更严厉的处罚。而这也响应了此前外界对于技术窃取和外泄相关处罚过于宽松，未能防止再次发生的情况的担忧。

目前韩国针对侵犯商业机密的行为，最高可判处6年以期徒刑。若根据最新修改后的罚则，一旦证实嫌疑人侵犯商业机密后向国外泄露国家关键技术，将会面临最高18年的有期徒刑。另外，向国外泄露国家级核心技术以外的工业技术，其最高刑责也将从目前的9年，提高到15年。至于，在韩国境内从事技术间谍活动的最高刑期，则将从现在的6年提高到9年。韩国最高法院量刑委员会也建议法官，不要因为肇事者是「初犯」就对其宽大处理。

根据韩国经济日报之前在2023年11月的分析报道指出，从2019年3月到2023年10月，韩国共侦破，或接受检察官调查，最后进行审判的技术产权盗窃案件达到1310起。然而，所有被告均没有被判处6个月以上的有期徒刑刑责。而根据韩国国家情报局（NIS）的数据显示，自2018年以来，已发生30多起半导体相关技术外泄案件，这比5年前的7起提升了超过四倍。

而在过去5年间发现的所有104起技术外泄案件中，有60起案件与国家战略技术有关，包括半导体、显示器和电池。整体来说，所有的技术外泄案件造成了韩国企业多达达25万亿韩元（约190亿美元）的损失。因此，面对韩国工商业界的呼吁，韩国决定对技术窃取与外泄案件提高刑责，以抑制相关事件的再次发生。

编辑：芯智讯-林子